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GB/T 6052-2011 工业液体二氧化碳 现行 发布日期 :  2011-12-30 实施日期 :  2012-10-01

本标准规定了工业用和焊接用液体二氧化碳的技术要求、试验方法、包装、标志、储存与运输。
本标准适用于由石灰窑气、发酵气、烃类转化气制取的以及由工业排放气回收制取的液体二氧化碳,主要用于焊接、化工、铸型、制冷、化纤、农业和科研等部门和领域。
分子式:CO2。
相对分子质量:44.009 5(按2007年国际相对原子质量)。

   电子版:29元 / 折扣价: 25  纸质版:29元 / 折扣价: 25

本部分规定了气体中颗粒含量测定的术语和定义、方法原理、仪器要求、试验步骤、校准和量值溯源、结果计算和判别、报告。
本部分适用于通过管道输送的气体中颗粒大小及含量的测定。颗粒直径的检测范围:0.1 μm~10 μm。
本部分不适用于瓶装气体及以液相状态存在的气体。

   电子版:29元 / 折扣价: 25  纸质版:29元 / 折扣价: 25

GB/T 17874-2010 电子工业用气体 三氯化硼 被代替 发布日期 :  2011-01-14 实施日期 :  2011-05-01

本标准规定了三氯化硼的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于以粗制三氯化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氯化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺。
分子式:BCl3。
相对分子质量:117.1691(按2007年国际相对原子质量计算)。

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GB/T 26249-2010 电子工业用气体 硒化氢 现行 发布日期 :  2011-01-14 实施日期 :  2011-05-01

本标准规定了硒化氢的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于硒铝、硒镁合金化合物水解、单质硒与氢高温反应等方法获得并经精制得到的硒化氢产品。它主要用于太阳能电池、半导体和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂。
分子式:H2Se。
相对分子质量:80.975 88(按2007年国际相对原子质量计算)。

   电子版:31元 / 折扣价: 27  纸质版:31元 / 折扣价: 27

GB/T 26250-2010 电子工业用气体 砷化氢 现行 发布日期 :  2011-01-14 实施日期 :  2011-05-01

本标准规定了砷化氢的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于砷化合物与酸反应获得的砷化氢。在半导体器件制备过程中,砷化氢用于掺杂以及化合物半导体外延。
分子式:AsH3。
相对分子质量:77.945 42(按2007年国际相对原子质量计算)

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GB/T 26251-2010 氟和氟氮混合气 现行 发布日期 :  2011-01-14 实施日期 :  2011-05-01

本标准规定了氟和氟氮混合气的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全的要求。
本标准适用于电解无水氟化氢并经过纯化工艺处理后获得的氟。氟用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼、二氟化银、三氟化钴和三氟化镁等氟化物,也可用于激光气或塑料氟化处理等领域。
氟氮混合气制备采用压力法。混合气主要用于汽车、制药工业中材料氟化处理。
氟的分子式:F2。
氟的相对分子质量:37.996 806 4(按2007年国际相对原子质量计算)。

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GB/T 26073-2010 有毒与可燃性气体检测系统安全评价导则 现行 发布日期 :  2011-01-10 实施日期 :  2011-10-01

本标准规定了用于安全监测的固定式气体检测系统评价的术语和定义、项目和内容以及气体检测技术。
本标准适用于有毒和易燃气体检测系统的安全评价。本标准不适用于消防及安全守则的规定。

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GB/T 14600-2009 电子工业用气体 氧化亚氮 现行 发布日期 :  2009-10-30 实施日期 :  2010-05-01

本标准规定了氧化亚氮的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺。
分子式:N2O。
相对分子质量:44.012 8(按2005年国际相对原子质量计算)。

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GB/T 14601-2009 电子工业用气体 氨 现行 发布日期 :  2009-10-30 实施日期 :  2010-05-01

本标准适用于半导体工业,氮化硅、氮化镓的化学气相淀积,也可用于硅或氧化硅的氮化。
分子式:NH3。
相对分子质量:17.031(按2005年国际相对原子质量)。

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GB/T 14603-2009 电子工业用气体 三氟化硼 现行 发布日期 :  2009-10-30 实施日期 :  2010-05-01

本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮运及安全要求。
本标准适用于以氟气和硼单质为原料,采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼;和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。
分子式:BF3。
相对分子质量:67.805(按2005年国际相对原子质量计算)。

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