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本标准规定了电子工业用三氟甲烷的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。本标准适用于以二氟一氯甲烷、三氯甲烷和氟化氢为原料制备的三氟甲烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体。分子式：CHF3。相对分子质量：70.013（按2011年国际相对原子质量)。
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本标准规定了电子工业用六氟乙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运及安全。本标准适用于工业用六氟乙烷经精制提纯而得的高纯六氟乙烷产品。主要在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或作为电子器元件清洗剂。分子式：C2F6。相对分子质量：138.012 4（按2013年国际相对原子质量)。
本标准规定了丙烯的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运及安全的内容。本标准适用于以工业丙烯为原料，采用吸附、精馏方法提纯制备的电子工业用丙烯。它主要用于半导体技术领域。分子式：C3H6。相对分子质量：42.081（按2011年国际相对原子质量）。
本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全的内容。本标准适用于硅化镁法、氢化铝钠还原四氟化硅法、氯硅烷歧化工艺法制备的电子工业用硅烷。 它主要用于制作高纯多晶硅、二氧化硅的低温化学气相淀积、氮化硅化学气相淀积、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和异质或同质硅外延生长原料以及离子注入源和激光介质等，还可用于制作太阳能电池、光导纤维和光电传感器等。分子式：SiH4。相对分子质量：32.117（按2011年国际相对原子质量）。
本标准规定了痕量分析用气体的深度纯化技术。经纯化后气体的目标组分含量的体积分数低于0.01×10-6，压力为0.1 MPa～18 MPa，流量为0.1 L/min～100 L/min。
本标准适用于仪表校准用零点气、气相色谱分析所用的载气和标准气体的平衡气。本标准适用的气体为氧气、氢气、氮气、氦气、氖气、氩气、氪气、氙气。
本标准确定了采用带火焰光度检测器（FPD）的气相色谱仪测定煤基合成气中硫化氢、羰基硫、甲硫醇、甲硫醚的方法提要、试剂和材料、仪器、采样、测定步骤、结果计算、精密度、试验报告。本标准适用于煤基合成气中硫化氢浓度不低于0.08 mg/m3、羰基硫浓度不低于0.12 mg/m3、甲硫醇浓度不低于0.08 mg/m3、甲硫醚浓度不低于0.07 mg/m3的测定。
GB/T 5832的本部分规定了采用电解法测定气体中微量水分的方法，描述了方法原理，对仪器、仪器校准、测定事项、精密度、结果处理、试验报告等提出了要求。本部分适用于氮、氦、氖、氩、氪、氙、二氧化碳以及其他不与五氧化二磷发生除吸湿以外的各种反应的气体中微量水分的测定，测定范围：0.1×10-6～1 000×10-6（体积分数）。
GB/T 5832的本部分规定了采用露点法测定气体中微量水分的方法。
本部分适用于氢、氧、氮、氦、氖、氩、氪、氙、氧化亚氮等气体及其混合气体中微量水分的测定。不适用于在水分冷凝前就冷凝的气体以及能与水分发生反应的气体。本部分适用于0 ℃～-100 ℃气体露点的测定。
本标准规定了采用电化学法测定气体中微量氧的方法,包括燃料电池法、赫兹电池法、氧化锆浓差电池法、离子流法、原电池法等，对仪器、校准、试验步骤、结果处理和试验报告等提出了要求。 本标准适用于不与化学电池发生化学反应且不干扰测定的气体。测定范围：0.01×10-6（体积分数）～1 000×10-6（体积分数）。
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